聊聊實驗臺內(nèi)的氣流速度的分布均勻嗎？
說到實驗臺應(yīng)該有很多用戶是比較感興趣的，因為一般在實驗室中都可以見到它的身影，所以大家都想知道越多的關(guān)于它的消息。
在實驗臺中當通風氣流通過時，截面上氣流的速度分布是不均勻的。在柜壁面上，由于粘附作用，氣流的速度為0，越接近中心線速度越大，在中心線上速度到了很大值。運用流體力學分析可知，通風氣流速度的分布如圖l所示。
在實驗臺b-b截面上氣流的速度是按拋物線規(guī)律分布，在截面中間氣流的速度很大，在這里只要有粉霧，通風氣流就能很快把它帶走，這里對粉霧的控制能力很強，我們稱這里為強控制區(qū)；而在其兩側(cè)通風氣流的速度為0，就是說在這里通風氣流對粉霧的控制能力很弱，這里我們稱它為弱控制區(qū)（一）。
在實驗臺a-a截面上，由于工件對通風氣流的阻礙，在工件迎著通風氣流的-面同樣存在著一個氣流速度為0的區(qū)域，這里稱它為弱控制區(qū)（二）。而在工件兩側(cè)，則分別是兩個強控制區(qū)。
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